技術(shù)編號(hào)：12466973
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種集成電路掩模設(shè)計(jì)的優(yōu)化方法及計(jì)算機(jī)可讀的存儲(chǔ)介質(zhì)【技術(shù)領(lǐng)域】本發(fā)明涉及集成電路的掩模制造領(lǐng)域，尤其涉及一種集成電路掩模設(shè)計(jì)的優(yōu)化方法及計(jì)算機(jī)可讀的存儲(chǔ)介質(zhì)?！颈尘凹夹g(shù)】光刻工藝是現(xiàn)代極大規(guī)模集成電路制造過程中最重要的制造工藝，即通過光刻機(jī)將掩模上集成電路的設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的重要手段。掩模上集成電路設(shè)計(jì)圖形通過光刻機(jī)的投影物鏡在硅片上成像時(shí)，隨著掩模上圖形特征尺寸的較小，光的衍射現(xiàn)象逐漸顯著。在經(jīng)歷了基于規(guī)則的光學(xué)臨近效應(yīng)校正和基于模型的光學(xué)鄰近效應(yīng)校正后，目前最先進(jìn)的掩模設(shè)計(jì)優(yōu)化技術(shù)是基...
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