技術(shù)編號：12480582
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。圖案化和制作用于三維基底的掩模的方法優(yōu)先權(quán)的聲明本專利申請要求2014年4月25日提交的美國專利申請61/984,693的優(yōu)先權(quán)，該專利申請的全部內(nèi)容據(jù)此以引用方式并入本文。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明整體涉及利用掩模對三維基底進(jìn)行圖案化的新方法以及利用其上沉積的圖案化材料形成的產(chǎn)品。本發(fā)明還涉及制作用于對三維基底進(jìn)行圖案化的掩模的新方法。背景技術(shù)過去十年來，消費者需求刺激了技術(shù)的發(fā)展，使電子設(shè)備進(jìn)一步微型化。具體地，消費者減小其電子設(shè)備的尺寸和可視性的趨勢可能與其積極的生活方式相關(guān)。即，許多消費者希望隨時攜...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。