技術編號：12554107
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及光場成像領域，具體涉及一種基于光場測量的光場高清晰成像方法，其為基于對光場相機記錄的原始光場信息進行處理，通過恢復子孔徑圖像的對稱性，以達到提高光場相機在受到大氣湍流等像差影響時的成像分辨率。背景技術隨著CPU的爆炸式發(fā)展，基于計算成像的光場成像技術的發(fā)展前景非常樂觀，其在成像的同時，擴展了成像的重塑性，并且可以加入人對圖像的理解，使得最后的圖像信息更加靈活化。隨著光電技術及器件的發(fā)展和光場理論的進一步完善，光場成像正逐步滲透到航空拍攝、波前探測、安全監(jiān)視、科學儀器、攝影傳媒、3D立體...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。