技術(shù)編號(hào):12566055
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種溝槽型SiCMOSFET用原胞技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及功率半導(dǎo)體領(lǐng)域,具體涉及一種溝槽型SiCMOSFET用原胞。背景技術(shù)SiC溝槽型MOSFET(UMOSFET)具有很多優(yōu)勢(shì),如p基區(qū)可以用外延生長(zhǎng)形成,消除了離子注入形成p基區(qū)時(shí)缺陷帶來(lái)的影響,另外,溝槽型MOSFET的原胞可以做到更小,電流密度更高,特別是對(duì)于SiC材料昂貴的價(jià)格,可顯著的降低芯片成本。但是UMOSFET存在溝槽底部電場(chǎng)集中,以致柵介質(zhì)可靠性差的問(wèn)題,圖1為一種普通規(guī)格的n溝道UMOSFET原胞的示意圖,在關(guān)斷狀態(tài)下,加在漏極...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。