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單晶圓旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)的流體收集裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):12593921

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本實(shí)用新型涉及一種單晶圓旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)的流體收集裝置,尤其涉及一種利用上下作動(dòng)導(dǎo)引流體的蓋盤(pán)而可將不同流體分別收集于對(duì)應(yīng)的回收盤(pán)的流體收集裝置。背景技術(shù)濕式蝕刻為目前半導(dǎo)體制程當(dāng)中不可或缺的程序之一,一般來(lái)說(shuō),半導(dǎo)體單晶圓在濕式蝕刻的過(guò)程中會(huì)經(jīng)過(guò)多道蝕刻清洗的程序,例如,先以A酸進(jìn)行第一次蝕刻,接著以B酸進(jìn)行第二次蝕刻,最后再以去離子水沖洗洗凈,而基于成本考慮,所述使用過(guò)的蝕刻液需要進(jìn)行回收再利用,因此,現(xiàn)有的旋轉(zhuǎn)蝕刻裝置設(shè)有多個(gè)蝕刻液收集槽,通過(guò)將各該蝕刻液收集槽整體相對(duì)于放置單晶圓的轉(zhuǎn)盤(pán)上...
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