技術(shù)編號(hào)：12661012
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻設(shè)計(jì)技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種用于增強(qiáng)光刻分辨率的離軸照明結(jié)構(gòu)和光刻系統(tǒng)。背景技術(shù)光刻的基本原理是：利用光致抗蝕劑(或稱光刻膠)感光后因光化學(xué)反應(yīng)而具有耐蝕性的特點(diǎn)，將掩模板上的圖形刻制到被加工表面上。隨著微電子技術(shù)的不斷發(fā)展進(jìn)步，對(duì)于光刻系統(tǒng)的要求也越來越高。因此，光刻系統(tǒng)是高科技產(chǎn)業(yè)可持續(xù)發(fā)展的中流砥柱，最終能影響電子產(chǎn)品商業(yè)競爭的成敗。隨著光刻特征尺寸變小和光刻圖形結(jié)構(gòu)愈趨復(fù)雜及多樣化，同時(shí)也是在超大規(guī)模集成電路再造需求的推動(dòng)下，提高光刻分辨率已成為研究光刻技術(shù)的核心。由瑞利公...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。