技術(shù)編號：12715087
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種刻蝕腔室。背景技術(shù)基板的制備過程中，常采用等離子體刻蝕的方式來形成基板上的預(yù)定圖案。等離子體刻蝕是利用高頻電源和反應(yīng)氣體生成低溫等離子體，其包含離子和自由基，該離子和自由基與待刻蝕基板上未被光刻膠覆蓋的物質(zhì)反應(yīng)生成揮發(fā)性物質(zhì)，從而達(dá)到刻蝕的效果。其中，如圖1(a)和圖1(b)所示，刻蝕腔室包括頂部開口的腔體10、蓋合在腔體10頂部的蓋體20、以及設(shè)置在腔體10頂部的密封結(jié)構(gòu)30，腔體10上設(shè)置有特氣孔11?，F(xiàn)有技術(shù)中，特氣孔11設(shè)置在密封結(jié)構(gòu)30內(nèi)側(cè)，為了...
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