技術(shù)編號(hào):12746122
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域,特別涉及一種線條粗糙度的測(cè)量方法及系統(tǒng)。背景技術(shù)在集成電路制造工藝中,光刻和刻蝕工藝是最重要的制備工藝之一。隨著集成電路集成度的不斷提高,器件的特征尺寸不斷減小,尤其是進(jìn)入納米時(shí)代之后,對(duì)光刻和刻蝕的要求也越來(lái)越高,需要對(duì)光刻和刻蝕工藝嚴(yán)格控制,才能獲得器件性能上的要求。光刻工藝是獲得圖形形貌的最直接工藝之一,光刻工藝獲得的光刻膠圖形粗糙度直接影響后續(xù)轉(zhuǎn)移刻蝕之后實(shí)際結(jié)構(gòu)的粗糙度和側(cè)壁質(zhì)量。通常,在光刻工藝之后會(huì)抽查光刻圖形質(zhì)量,包括線條邊緣粗糙度(LineEdger...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。