技術(shù)編號：12747274
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光刻用清潔組合物以及采用該組合物形成光刻膠圖案的方法，更特別地，本發(fā)明涉及一種形成高縱橫比的光刻膠圖案所必需的清潔組合物，以及采用該組合物形成光刻膠圖案的方法。背景技術(shù)隨著對具有優(yōu)越性能的電子設(shè)備的需求的增加，集成電路或系統(tǒng)電路作為電子設(shè)備的關(guān)鍵要素，要求其精度更加精細(xì)。因此，圖案細(xì)度被視為影響集成電路或系統(tǒng)電路的精度的重要因素。目前，通常采用光刻來形成精細(xì)圖案，為了實現(xiàn)精細(xì)圖案，光刻膠圖案必須擁有高縱橫比。當(dāng)光刻膠圖案的縱橫比增加時，圖案容易塌陷。具有高縱橫比的光刻膠圖案容易塌陷...
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