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技術(shù)編號：12769872

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本發(fā)明屬于光學(xué)薄膜元件后處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種利用激光沖擊波技術(shù)提高光學(xué)薄膜元件力學(xué)性能的后處理方法。背景技術(shù)現(xiàn)代高功率激光技術(shù)的發(fā)展，特別是大口徑系統(tǒng)的發(fā)展，對光學(xué)薄膜元件性能提出了越來越苛刻的要求，要求其具有高光性精度、高力學(xué)性能、高損傷閾值和高精度面形控制，將直接影響到大口徑精密光學(xué)系統(tǒng)的功能實(shí)現(xiàn)和系統(tǒng)長時(shí)間運(yùn)行的穩(wěn)定性。影響光學(xué)薄膜各方面性能的因素有很多，包括薄膜自身特性、薄膜制備工藝以及激光參數(shù)等。光學(xué)薄膜元件由于其特殊的高、低折射率材料交替沉積在光學(xué)玻璃基底上的多層結(jié)構(gòu)，特別是在...
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