技術(shù)編號：12779564
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明專利屬于涂層鈦電極的制備領(lǐng)域，涉及一種在鈦基底上鍍一層鉑中間層后制備銻摻二氧化錫電極的方法。背景技術(shù)涂層鈦電極，也被稱為形穩(wěn)陽極，被廣泛應(yīng)用于氯堿工業(yè)、污水處理、電鍍、陰極保護(hù)等諸多領(lǐng)域。涂層鈦電極是以鈦為基體，涂覆上具有催化活性的金屬氧化物涂層構(gòu)成電極，常用的活性層材料有氧化釕、氧化銥、氧化鉛、氧化錫等。其中氧化錫電極以其高催化活性、無二次污染、制造成本低廉等優(yōu)點(diǎn)受到越來越多的關(guān)注。但是氧化錫電極有一個致命的缺點(diǎn)——工作壽命短，這個缺點(diǎn)嚴(yán)重限制了它的大規(guī)模應(yīng)用。已經(jīng)證明，造成氧化錫電極失...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。