技術(shù)編號：12785542
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種方法，尤其是一種能有效減少大理石橫梁長度的方法，屬于直寫式光刻膠的技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)直寫式光刻機(jī)設(shè)備又稱影像直接轉(zhuǎn)移設(shè)備，是半導(dǎo)體及PCB生產(chǎn)領(lǐng)域中有別于傳統(tǒng)半自動曝光設(shè)備的一個重要設(shè)備，是利用圖形發(fā)生器取代傳統(tǒng)光刻機(jī)的掩模板，從而可以直接將計算機(jī)的圖形數(shù)據(jù)曝光到晶圓或PCB板上，節(jié)省制板時間和制作掩模板的費用，并且自身可用做掩模板的制作。目前，國內(nèi)主流技術(shù)均使用DMD（數(shù)字微鏡芯片）作為影像轉(zhuǎn)移的核心器件。因DMD微鏡尺寸限制，無法一次曝光覆蓋整個電路板的范圍，因此，需要分成不同...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。