技術(shù)編號:12792891
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于高分子材料技術(shù)領(lǐng)域,涉及了一種對近紅外光、溫度、pH和還原四重響應(yīng)性納米復(fù)合物的制備及其應(yīng)用。背景技術(shù)近年來,各種各樣的納米載體用于控制釋放取得了長足的發(fā)展,尤其是介孔二氧化硅。以介孔二氧化硅為載體用于客體分子的釋放具有生物相容性好、表面易于修飾、裝載量大等優(yōu)點(diǎn),但是單純的介孔二氧化硅材料無法滿足客體分子釋放的可控性要求,以及存在裝載客體分子提前泄露的問題。另外,目前用于控制釋放的納米載體大多數(shù)都是單響應(yīng)的,如對pH,溫度,光,還原劑等敏感,而面對復(fù)雜多變的環(huán)境,單一刺激響應(yīng)的納米載體...
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