技術(shù)編號：12823627
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種光刻機同步控制系統(tǒng)及方法，屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。背景技術(shù)光刻機是半導(dǎo)體制造技術(shù)的核心設(shè)備，隨著半導(dǎo)體集成電路技術(shù)的快速發(fā)展，對光刻機的系統(tǒng)設(shè)計提出了更高的要求。一方面，硅片的集成度不斷提高，對于線寬的要求越來越高，需要光刻機的測量和控制系統(tǒng)更加精準(zhǔn)和復(fù)雜化，需要對外部分系統(tǒng)進行更多的擴展。另一方面，隨著曝光硅片尺寸的不斷增大，特別是平板顯示領(lǐng)域，所使用的基板尺寸越來越大，對于光刻機工件臺和掩模臺系統(tǒng)的控制和測量要求越來越高，如需要支持更高配置的激光干涉儀測量系統(tǒng)。同步控制系統(tǒng)是整個光...
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