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集成電路金屬連線的制備方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):12916755

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體芯片技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種集成電路金屬連線的制備方法。背景技術(shù)在晶體管的制備過(guò)程中,通常采用鋁硅銅作為金屬電極材料,而在干法刻蝕金屬電極的過(guò)程中,如圖1所示,一般需要聚焦環(huán)等塑料件固定硅襯底,而技術(shù)開(kāi)發(fā)人員在利用AME8330干法刻蝕設(shè)備的過(guò)程中發(fā)現(xiàn),由于AME8330設(shè)備內(nèi)部圓片作業(yè)時(shí)分布為上、中和下三層,中層硅襯底和上層硅襯底的十一點(diǎn)鐘區(qū)域由于被下層聚焦環(huán)的凸出結(jié)構(gòu)遮擋,導(dǎo)致刻蝕氣體流通不暢,從而在十一點(diǎn)鐘區(qū)域造成刻蝕不充分,進(jìn)而在如圖1所示的黑點(diǎn)殘留區(qū)遺留金屬殘?jiān)@...
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