技術(shù)編號：12923360
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及一種光彈試驗三方向均布力加載裝置，特別涉及平面光彈試驗中面力模擬地應(yīng)力的加載。背景技術(shù)光測彈性學(xué)方法(photoelasticity)，簡稱光彈性法，是將光學(xué)和力學(xué)緊密結(jié)合進(jìn)行應(yīng)力分析的一種試驗技術(shù)，采用具有雙折射性能的透明材料制作出和被研究對象形狀幾何相似的模型，并使模型受力情況與被研究對象的荷載相似，將受力后的模型置于偏振光場之中，即可以顯示所形成的與應(yīng)力場有關(guān)的干涉條紋圖像，形成的這些條紋圖像與模型內(nèi)部各點的應(yīng)力及受力模型的邊界有關(guān)，根據(jù)光彈性原理，便可以求出模型的內(nèi)部和表面...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。