技術(shù)編號(hào)：1359445
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于太陽能級(jí)硅片清洗，特別是太陽能硅片表面金屬離子去除的方法。背景技術(shù)太陽能級(jí)硅晶體切片所用的切割鋼線為一根表面鍍有銅鍍層的鐵絲，在硅晶體切片過程中，鋼線上的金屬銅和金屬鐵在切割前沿的高溫下會(huì)侵蝕硅片，使硅片表面形成缺陷，進(jìn)而對(duì)電池的轉(zhuǎn)換效率造成影響。傳統(tǒng)的硅片清洗方法是利用無機(jī)酸、氧化劑、無機(jī)堿以及表面活性劑等溶液分別對(duì)硅片進(jìn)行清洗。由于硅片表面的金屬離子被清洗到溶液中后還會(huì)存在反吸附，傳統(tǒng)的硅片清洗方法無法將硅片表面銅和鐵污染物的含量清洗至一定要...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。