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技術(shù)編號(hào)：1398308

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背景技術(shù) 電子晶片的生產(chǎn)過程包括在化學(xué)機(jī)械平面化(CMP)過程之中或之后用液體溶液清洗半導(dǎo)體工件的步驟?！鞍雽?dǎo)體工件”是一種尚未完工的微電子器件，一般是一種硅晶片表面或其中形成有活性區(qū)域的硅晶片。用多層金屬，一般是已沉積于硅基材上的銅或鎢使活性區(qū)域連接起來。當(dāng)用銅作為互連材料時(shí)，采用金屬鑲嵌法，從而使銅沉積到蝕刻于夾層間電介質(zhì)中的線內(nèi)，然后用CMP法除去過量銅并進(jìn)行表面平面化處理，之后是清洗步驟。清洗過程(“CMP后清洗“)的目標(biāo)是在不會(huì)顯著刻蝕金屬、不在...
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