技術(shù)編號：1492711
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及可以抑制起因于濺射物的附著而發(fā)生的粒子的發(fā)生 的賊射乾的制造方法、濺射靶的洗滌方法、濺射靶及濺射裝置。背景技術(shù)高質(zhì)量金屬膜的成膜方法之一有磁控濺射法。濺射法概略地說是在真空中生成氬氣的等離子、使氬(Ar)離子沖擊固定在陰極電極上 的靶、將從靶的表面飛散的含有乾的構(gòu)成原子的濺射粒子堆積在作為 成膜對象的基板上的成膜方法。磁控濺射法是還在靶的表面上形成磁 場，以在靶附近生成高密度等離子而謀求成膜速度高速化的成膜方法。通常，靶粘接在作為陰極電極的背板的...
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