技術(shù)編號(hào)：1837305
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種功能材料的制備方法，特別涉及一種。背景技術(shù) 氧化錫是至今為止應(yīng)用最廣泛的氣敏材料，具有優(yōu)良的氣敏性能，將其制成薄膜型氣敏元件，可提高氧化錫材料的氣敏性能。多孔薄膜具有廣闊的應(yīng)用空間，可應(yīng)用在催化，分離吸附，光學(xué)，電池環(huán)境污染治理等領(lǐng)域，目前已有的納米材料多孔薄為TiO2、SiO2、Al2O3、WO3多孔薄膜，薄膜的孔隙率低，比表面積小。尚未有氧化錫多孔薄膜的報(bào)道。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明需要解決的技術(shù)問題是提供一種，所制成的氧化錫多孔薄膜，其孔隙率高，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。