技術(shù)編號：1838263
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及 一 種。 背景技術(shù)一般玻璃襯底的耐熱度往往只能到600°C ，如果直接在高溫 下制作多晶硅薄膜，將會造成玻璃扭曲變形，因此，產(chǎn)業(yè)界和 學(xué)術(shù)界都致力于發(fā)展制作低溫多晶硅薄膜(Low Temperature Polysilicon Thin Film)。準(zhǔn)分子激光退火(Excimer Laser Annealing, ELA)方法是目 前 一 種廣泛用于制作低溫多晶硅薄膜的方法，其是利用高能量 的準(zhǔn)分子激光照射非晶硅薄膜，使非晶硅薄膜吸收激光能量，...
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