技術(shù)編號:1849148
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種抗紫外線的CM2納米薄膜的制備方法。 背景技術(shù)近年來,大量化學物質(zhì)破壞了大氣層中的臭氧層,使其吸收紫外線的能力大大降低,導致人類接受過量的紫外線輻射。嚴格來說,紫外線對人體的傷害按波長不同分為3 種UVA(波長315nm 400nm)可以直達肌膚的真皮層,破壞彈性纖維和膠原蛋白纖維,將我們的皮膚曬黑;UVB (波長280nm 315nm)對人體具有紅斑作用,能促進體內(nèi)礦物質(zhì)代謝和維生素D的形成,但長期或過量照射會令皮膚曬黑,并紅腫脫皮;UVC...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。