技術編號：1875959
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明提供一種，包括以下步驟提供一基底；在所述基底的表面形成一掩模層；納米壓印所述掩模層，使所述掩模層表面形成并排延伸的多個條形凸起結構；刻蝕所述掩模層，使所述凸起結構的頂端兩兩靠在一起而閉合；刻蝕所述基底，使所述基底的表面圖案化，形成多個三維納米結構預制體；以及去除所述掩模層，形成多個三維納米結構。專利說明[0001]本發(fā)明涉及一種，尤其涉及一種閃耀。背景技術[0002]光柵是現代精密儀器的重要組成元件之一。普通光柵大部分的能量集中在零級衍射，由于單縫衍...
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