技術編號：2415395
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明提供一種，尤指一種利用曝光顯影技術以及脫模技術以制作出具有高分辨率(resolution)的金屬屏蔽的方法。背景技術金屬屏蔽是半導體、封裝、微機電、壓模板(stamper)工序中常使用的工序工具之一，其可結合蒸鍍、濺鍍、網(wǎng)印及覆晶封裝的錫球印刷等技術，以形成所需的結構體。一般而言，金屬屏蔽是先在一金屬薄板的特定位置上制作需要的開口，以形成特定的圖形，然后在進行上述蒸鍍等工序時，使材料經(jīng)由金屬薄板上的開口，而在基材上形成特定圖形。其中，金屬屏蔽的圖形的...
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