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抗靜電性剝離薄膜的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2451920

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在基底薄膜的至少一面形成抗靜電層、在該抗靜電層上進(jìn)一步形成硅酮類剝離層而成的抗靜電性剝離薄膜的該抗靜電層含有成分(a)使硅酸烷基酯的水解物與偶聯(lián)劑發(fā)生縮合反應(yīng)而得到的縮合反應(yīng)物、成分(b)水溶性成膜用樹脂和成分(c)抗靜電劑。硅酸烷基酯具有式(1)的結(jié)構(gòu),偶聯(lián)劑具有式(2)的結(jié)構(gòu)。專利說(shuō)明抗靜電性剝離薄膜 [0001] 本發(fā)明涉及在基底薄膜的一面形成有抗靜電層、在該抗靜電層上進(jìn)一步形成有硅 酮類剝離層的抗靜電性剝離薄膜。 背景技術(shù) [0002] ...
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