技術(shù)編號(hào)：2474262
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及通過等離子體CVD形成的氣體阻擋膜的，詳細(xì)而言，涉及使用表面由高分子化合物等有機(jī)材料形成的基板，能夠形成氣體阻擋性優(yōu)良的氣體阻擋膜的功能性薄膜的制造方法及通過該制造方法制作的功能性薄膜。背景技術(shù)在光學(xué)元件、液晶顯示器或有機(jī)EL顯示器等顯示裝置、半導(dǎo)體裝置、薄膜太陽能電池等各種裝置中要求防濕性的部位或部件、食品、服裝、電子部件等的包裝中使用的包裝材料中利用氣體阻擋膜(水蒸氣阻擋膜)。氣體阻擋膜為由氧化硅或氮化硅等表現(xiàn)出氣體阻擋性的物質(zhì)形成的膜，通過...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。