技術(shù)編號(hào):2476709
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及噴墨記錄介質(zhì)。 背景技術(shù)噴墨記錄介質(zhì)是在基材(substrate)上具有墨接受層的記錄介質(zhì)并且通過(guò)噴墨記錄法將墨施涂時(shí)能夠展示良好的顯色性和墨吸收性。關(guān)于噴墨記錄介質(zhì),施涂墨時(shí),在表面上可能產(chǎn)生凸起(bump)(波紋)。為了解決這樣的問(wèn)題,日本專利公開No. 2004168470 記載了如下的記錄介質(zhì),其中將基材的纖維取向比(MD/⑶)限定(specify)為1. 4以下并且將1分鐘后CD方向上的水中伸長(zhǎng)率限定為1. 7%以下。發(fā)明內(nèi)容噴墨記錄介...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。