技術(shù)編號(hào)：2586316
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。 背景技術(shù)作為從固體內(nèi)部向外部發(fā)射電子的機(jī)構(gòu)，典型地已知熱電子發(fā)射、光電子發(fā)射、場(chǎng)電子發(fā)射、次級(jí)電子發(fā)射等。在這些機(jī)制中，具有場(chǎng)電子發(fā)射機(jī)構(gòu)的電子發(fā)射裝置，S卩，MIM(金屬絕緣體金屬) 電子發(fā)射裝置和MIS(金屬絕緣體半導(dǎo)體)電子發(fā)射裝置是已知的。這些電子發(fā)射裝置是表面發(fā)射型電子發(fā)射裝置，其每個(gè)使用在該電子發(fā)射裝置內(nèi)部的量子尺寸效應(yīng)和強(qiáng)電場(chǎng)來加速電子，并且從其平板狀的裝置表面發(fā)射電子。由于在設(shè)備內(nèi)部的電子加速層中被加速的電子被發(fā)射到外部，所以...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。