技術(shù)編號：2674482
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明有關(guān)于一種透過液體使基板曝光的。本案基于2005年4月27日所提出申請的日本特愿2005_1四517號案、以及2005 年7月21日所提出申請的日本特愿2005-211319號案主張優(yōu)先權(quán)，而將其內(nèi)容援用于本文中。背景技術(shù)半導(dǎo)體組件或液晶顯示組件等微組件制造工藝之一的光刻步驟中，采用將掩膜上所形成的圖案投影曝光在感旋光性基板上的曝光裝置。此曝光裝置，具有用以保持掩膜的掩膜載臺、以及用以保持基板的基板載臺，一邊使掩膜載臺與基板載臺依序移動、一邊透過投影...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。