技術(shù)編號(hào)：2678806
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體光刻工藝設(shè)備，尤其涉及一種具有較長(zhǎng)使用壽命、耐磨損的接觸式掩膜版器件。背景技術(shù)在目前半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過程中，有一部分光刻工藝使用的是接觸式曝光法，此種曝光方式需要掩膜版和硅片直接接觸。如圖1和圖2所示，在正常工作時(shí)，需要將硅片2放置在掩膜版1之上，通過移動(dòng)硅片2來對(duì)準(zhǔn)。只有當(dāng)對(duì)準(zhǔn)完成后方可進(jìn)行曝光。但在對(duì)準(zhǔn)過程中，硅片表面很容易導(dǎo)致掩膜版被劃傷損壞，在重復(fù)利用少數(shù)幾次后便需要更換掩膜版， 這樣造成曝光光刻成本升高，同時(shí)由于無法及時(shí)檢查...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。