技術(shù)編號：2680306
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型有關(guān)于一種用于蝕刻電路制程的曝光機(jī)光罩，特別指一種可避免光罩交界處圖形曝光不佳的曝光機(jī)光罩。背景技術(shù)一般在進(jìn)行芯片加工時，為了能夠在芯片基底上設(shè)置出細(xì)小而復(fù)雜的電路結(jié)構(gòu)，會以各種物理或化學(xué)的方式重復(fù)對芯片表面進(jìn)行堆積或蝕刻。而用來控制堆積或蝕刻區(qū)域的最主要手段便是利用曝光顯影的方式，先在芯片表面設(shè)置具有微小電路圖案的光阻層，利用光阻層將無需進(jìn)行加工的部分遮蔽住，接著便能夠精確的對所欲加工產(chǎn)生電路的區(qū)域進(jìn)行堆積或是蝕刻。由此可知，曝光顯影時的精確度...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。