技術(shù)編號：2682554
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于半導(dǎo)體光刻的投射曝光裝置，尤其涉及一種包含可加熱光學(xué)元件的EUV投射曝光裝置。背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體技術(shù)中組件持續(xù)進(jìn)一步微型化的趨勢，投射曝光裝置中使用的光波長也必須變得越來越短，以便能夠?qū)?yīng)地增加所使用的投射物鏡(projection objective)的分辨性能(resolution capability)。所使用的光學(xué)福射的波長近來已縮短到EUV (=Extreme UltraViolet，極紫外光)范圍。在這樣的波長范圍中，實(shí)際上已...
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