技術(shù)編號：2683733
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于納米尺度元件，尤其涉及一種制作大高寬比X射線衍射光柵的方法。背景技術(shù)眾所周知，隨著納米加工領(lǐng)域的不斷發(fā)展，所需要的元件越來越精密，并且高寬比要求越來越大。通常情況下，在整個(gè)器件中特征圖形尺寸的高寬比大于4的衍射光學(xué)元件被稱作大高寬比衍射光學(xué)元件。使用普通的制作工藝，很難制作出高寬比大于4的大高寬比的X射線衍射光柵，其原因在于表面張力的影響使得細(xì)線條的光刻膠極易倒塌，大高寬比的光刻膠，其表面張力大于光刻膠的內(nèi)部應(yīng)力，很容易粘黏到一塊，從而限制了其工...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。