技術(shù)編號(hào)：2685028
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光通信領(lǐng)域的集成光學(xué)芯片，尤其涉及基于玻璃基離子交換掩埋光波導(dǎo)的集成光學(xué)芯片及制作方法。背景技術(shù)目前，市場(chǎng)上應(yīng)用于光通信的集成光學(xué)芯片，主要基于PECVD技術(shù)制造而成。 PECVD技術(shù)即等離子增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，其技術(shù)原理是利用低溫等離子體作為能量源，將晶圓置于低氣壓下輝光放電的陰極上，采用輝光放電或額外發(fā)熱體使樣品升溫到預(yù)定溫度，然后通入適量的反應(yīng)氣體，氣體在微波或射頻的作用下發(fā)生電離，在局部形成等離子體，由于等離子體活性很強(qiáng)，氣體經(jīng)過一系...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。