技術(shù)編號:2685217
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是關(guān)于圖案形成方法及圖案形成裝置、,進(jìn)ー步詳言之,是關(guān)于在移動體上所載置的物體形成圖案的圖案形成方法及圖案形成裝置、使物體曝光的曝光方法及曝光裝置、以及使用該圖案形成方法及曝光方法的元件制造方法。背景技術(shù)在用來制造半導(dǎo)體元件、液晶顯示元件等微元件(電子元件)的微影制程中,會使用將圖案形成于涂有光阻的基板,例如晶片或玻璃板等感光物體(以下,總稱為晶片),上的曝光裝置。半導(dǎo)體元件等,由于是將復(fù)數(shù)層圖案重疊形成于晶片上,因此曝光裝置必須能夠具有將已形成于晶...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。