技術(shù)編號(hào)：2686040
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種接近式曝光裝置，更具體而言，涉及適用于將掩模圖案曝光轉(zhuǎn)印在例如液晶顯示器或等離子顯示器等大型平板顯示器等的基板上的接近式曝光裝置。背景技術(shù)接近式曝光是將表面涂敷有感光劑的透光性基板(被曝光件)保持在曝光裝置的工作臺(tái)(work stage)上，同時(shí)使該基板與保持在掩模裝載臺(tái)的掩模保持框中的掩模接近，使兩者的間隙為例如數(shù)十微米 數(shù)百微米，利用照射裝置，從掩模的與基板呈相反側(cè)的一偵U，向掩模照射曝光用光，由此將繪制在掩模上的圖案曝光轉(zhuǎn)印到基板上的技...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。