技術(shù)編號：2686323
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及輻射源，其適于與光刻設(shè)備結(jié)合使用，或形成光刻設(shè)備的一部分。更一般地，本發(fā)明還涉及用于生成流體流的布置，以及控制這種布置內(nèi)污染物的方法。背景技術(shù)光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上，通常是襯底的目標(biāo)部分上的機器。光刻設(shè)備可用于例如制造集成電路(1C)。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成待形成在所述IC的單層上的電路圖案?？梢詫⒃搱D案轉(zhuǎn)移到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。典型地...
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