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低壓干燥預(yù)烘裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2691978

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本實(shí)用新型涉及顯示領(lǐng)域,特別是涉及ー種用于顯示裝置光刻制造エ藝中的低壓干燥預(yù)烘裝置。背景技術(shù)薄膜晶體管液晶顯不裝置(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,TFT LCD)的制作エ藝中,光刻エ藝是重要的環(huán)節(jié)。傳統(tǒng)光刻エ藝包括涂膠前的基板表面預(yù)處理步驟、涂覆(Coating)光刻膠(Photoresist, PR)、低壓干燥(Low Pressure Dry)、預(yù)烘(Pre-Bake)、曝光(Exposure)、...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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