技術(shù)編號(hào)：2695338
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及被曝光基板用防水劑組合物、抗蝕圖形的形成方法及利用該形成方 法制造的電子器件、被曝光基板的防水處理方法、被曝光基板用防水劑套裝(set)以及使 用該套裝的被曝光基板的防水處理方法。背景技術(shù)近年來，在電子器件(例如半導(dǎo)體器件、液晶顯示元件、磁頭和顯微透鏡等)的 制造工藝等中、尤其是半導(dǎo)體器件的制造中所采用的浸沒式曝光法(immersion lithography process)的開發(fā)正如火如荼地進(jìn)行著，所述浸沒式曝光法是使曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)和...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。