技術(shù)編號(hào)：2700422
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。，在對(duì)光刻膠層進(jìn)行曝光前增加添加圖形偏移量的步驟提供參考晶片；根據(jù)原始的圖形曝光參數(shù)在原始參考半導(dǎo)體器件上得到原始保護(hù)層，觀察原始保護(hù)層的變形情況；在原始圖形曝光參數(shù)的基礎(chǔ)上加入圖形偏移量，在偏移參考半導(dǎo)體器件上獲得相對(duì)應(yīng)的偏移參考保護(hù)層，觀察偏移參考保護(hù)層的變形情況；確定出沒有變形且窗口較大的校正圖形；確定出校正圖形相對(duì)于原始光刻圖形的圖形偏移量，包括X軸方向的偏移量AX以及Y軸方向的偏移量AY，得到對(duì)應(yīng)的圖形偏移量參數(shù)；將圖形偏移量參數(shù)添加至圖形曝光參...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。