技術編號：2704607
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明提供了用于光刻曝光工藝的掩模的一個實施例。該掩模包括掩模襯底；第一掩模材料層，被圖案化以具有限定第一層圖案的多個第一開口；以及第二掩模材料層，被圖案化以具有限定第二層圖案的多個第二開口。本發(fā)明還公開了利用單次曝光形成多層圖案的具有三種狀態(tài)的光掩模。專利說明利用單次曝光形成多層圖案的具有三種狀態(tài)的光掩模[0001] 相關申請交叉引用[0002] 本專利申請是2013年5月31日提交的標題為"Method To Define Multiple Layer...
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該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。