技術(shù)編號：2708767
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本公開涉及一種光致抗蝕劑組合物及利用該光致抗蝕劑組合物制備薄膜晶體管基底的方法。更具體地，本公開涉及一種能形成半色調(diào)(halftone)光致抗蝕劑薄膜的光致抗蝕劑組合物和利用該光致抗蝕劑組合物制備薄膜晶體管基底的方法。背景技術(shù) 利用四個掩膜，可以使用正性光致抗蝕劑組合物制備薄膜晶體管(TFT)基底。然而，當光致抗蝕劑薄膜利用正性光致抗蝕劑組合物形成時，與溝道部分對應(yīng)的光致抗蝕劑薄膜的殘留均勻性(residual uniformity)會很差，從而導(dǎo)致短路或...
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