技術(shù)編號：2710054
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。，包括在進(jìn)行新試運行時，所預(yù)測的曝光能量參數(shù)參照同一設(shè)備的同工藝、同層間結(jié)構(gòu)之曝光能量；在改變設(shè)備進(jìn)行試運行時，所預(yù)測的曝光能量參數(shù)基于在每種設(shè)備上的曝光能量比例進(jìn)行計算。在改變設(shè)備進(jìn)行試運行時，其計算方法包括步驟S1羅列設(shè)備的曝光能量矩陣，以及光刻工藝中的工藝條件參數(shù)；步驟S2進(jìn)行條件匹配，并基于所述條件下的曝光能量參數(shù)計算曝光能量參數(shù)參考值Dose_Ref（n）；步驟S3基于數(shù)據(jù)庫中樣本的曝光能量參數(shù)Dose_Ref（n）之權(quán)重Wt（n）和時間Day（...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。