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一種高性能液晶光掩膜及其應(yīng)用的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:2712451

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一種高性能液晶光掩膜及其應(yīng)用。該光掩膜包括,成像控制器,均光層,導(dǎo)光層,第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片,液晶層和第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片;所述液晶層夾設(shè)于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片之間;第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設(shè)置有第一透明電極層;第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設(shè)置有第二透明導(dǎo)電層;所述第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片的偏振方向夾角為90度;所述導(dǎo)光層設(shè)置于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片的光入射的一側(cè),所述均光層設(shè)置于導(dǎo)光層的光入射的一側(cè)。本發(fā)明提供了一種無需更換掩膜實現(xiàn)多掩膜套印...
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