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光掩模及其制造方法、圖案轉(zhuǎn)印方法和顯示裝置制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2714685

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,提高細(xì)微圖案的轉(zhuǎn)印性。顯示裝置制造用光掩模通過(guò)如下方式形成,在透明基板上,利用濕式蝕刻分別對(duì)相位偏移膜、蝕刻掩模膜和遮光膜進(jìn)行圖案化,形成包含遮光部、相位偏移部和透光部的轉(zhuǎn)印用圖案,其中,遮光部是依次層疊相位偏移膜、蝕刻掩模膜和遮光膜而成的,相位偏移部是相位偏移膜,或者依次層疊相位偏移膜和蝕刻掩模膜而成的,透光部是使透明基板表面露出而成的,相位偏移膜由含有鉻的材料構(gòu)成,蝕刻掩模膜由對(duì)相位偏移膜的蝕刻液具有耐蝕刻性的材料構(gòu)成,相位偏移部與透光部具有彼此鄰接...
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