技術(shù)編號：2716666
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種平面光波導(dǎo)及其制作方法，所述制作方法包括在襯底表面形成下包層；在下包層表面形成鍺摻雜的二氧化硅層；對所述二氧化硅層進(jìn)行多次退火處理，相鄰兩次退火中，后一次退火溫度高于前一次退火溫度；對所述二氧化硅層進(jìn)行刻蝕，形成預(yù)設(shè)結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)芯層；形成覆蓋所述波導(dǎo)芯層的保護(hù)層。通過多次階梯狀溫度退火，在提高波導(dǎo)芯層相對于下包層折射率的同時保證了波導(dǎo)芯層的折射率均勻性。采用所述制作方法制備的平面光波導(dǎo)器件，波導(dǎo)芯層相對于下包層的折射率差值大于或等于1％，且波...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。