技術(shù)編號(hào):2718345
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型提供一種用于識(shí)別光掩膜待量測(cè)圖形的結(jié)構(gòu),至少包括基板及位于其上的圖形層;所述圖形層表面具有與所述基板接觸的若干凹槽;所述若干凹槽的分布構(gòu)成第一矩陣;所述第一矩陣每行中相鄰兩凹槽間的圖形層形成第二矩陣單元;當(dāng)所述第一矩陣任意一行中連續(xù)分布的若干凹槽為待量測(cè)結(jié)構(gòu)時(shí),與該待量測(cè)結(jié)構(gòu)中首末兩個(gè)凹槽分別左、右相鄰的兩個(gè)第二矩陣單元上具有識(shí)別標(biāo)記;當(dāng)所述第二矩陣任意一行中連續(xù)分布的若干第二矩陣單元為待量測(cè)結(jié)構(gòu)時(shí),與該待量測(cè)結(jié)構(gòu)中首末兩個(gè)單元分別左、右相鄰的兩...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
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