技術(shù)編號(hào)：2726089
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及使用偏振輻射，尤其是使用光的光學(xué)系統(tǒng)的領(lǐng)域。更具體而言，本發(fā)明涉及一種用于表征(characterizing)這種光學(xué)系統(tǒng) 中的照明系統(tǒng)的偏振度的方法及裝置。背景技術(shù)高數(shù)值孔徑(N.A.)光刻系統(tǒng)是用于制造滿足當(dāng)今微型化需要的 電子元件的強(qiáng)大工具。遺憾的是，在使用高N.A.系統(tǒng)的情形中遇到 幾個(gè)不期望的效應(yīng)。這些效應(yīng)引起畸變的圖像，導(dǎo)致制造的電子元件 質(zhì)量較低。例如光的輻射的偏振態(tài)典型地能夠分為橫電場(chǎng)(TE)偏 振分量和橫磁場(chǎng)(TM)偏振分量，如...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。