技術(shù)編號(hào)：2727303
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻設(shè)備、用于光刻設(shè)備的校準(zhǔn)方法、利用光刻設(shè)備的器件制造方法以及計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。背景技術(shù) 光刻設(shè)備是將所希望的圖形應(yīng)用到襯底上，通常應(yīng)用到襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。光刻設(shè)備可以用在例如集成電路(IC)的制造中。在那種情況下，可使用可選地稱為掩?；驑?biāo)線的構(gòu)圖裝置來產(chǎn)生將要形成在IC的單獨(dú)層上的電路圖形?？梢詫⒃搱D形轉(zhuǎn)印到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括部分、一個(gè)或若干管芯)上。轉(zhuǎn)印圖形一般是通過在提供于襯底上的一層輻射敏感材料(抗蝕劑)上...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。