技術(shù)編號：2727616
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于半導體前道工序中的光刻，涉及到帶有平衡塊的大行 程精密定位系統(tǒng)，特別是應用于工件臺的平衡定位系統(tǒng)。背景技術(shù)從光刻機的發(fā)展歷程來看，芯片制造商對線寬(CD)、套刻精度(Overlay) 及產(chǎn)率等的追求是光刻機技術(shù)不斷發(fā)展、創(chuàng)新的源泉。當光刻技術(shù)步入納米時 代以后，解決整機系統(tǒng)中的振動問題已經(jīng)上升到了非常重要的高度。在光刻機 系統(tǒng)中，工件臺系統(tǒng)和掩模臺系統(tǒng)的加速運動是引入振動的一個主要因素。當硅片直徑不大于200腿，線寬不低于100nm，產(chǎn)率要求還不...
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